Интернет |
TSMC рассчитывает ускорить внедрение техпроцесса N3E на пару месяцев
27
По сложившейся традиции, на квартальной отчётной конференции генеральный директор TSMC Си-Си Вэй (C.C. Wei) поделился с аудиторией новостями об успехах в освоении новых литографических норм. Согласно первоначальному замыслу, улучшенная версия 3-нм техпроцесса по имени N3E должна была добраться до конвейера TSMC через год после базового варианта N3, но теперь руководство компании ожидает ускорить этот процесс на два или три месяца. Источник изображения: ASML